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當(dāng)前位置:首頁產(chǎn)品中心SN-LDE氮化硅薄膜窗格

氮化硅薄膜窗格

產(chǎn)品簡介

SHNTI的X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線(如真空紫外線)的Z大透射率。主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時(shí)承載樣品。 X-射線越軟(能量越低),穿透能力越差,所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在“離軸"狀態(tài)工作(即薄膜與光束成一定角度)時(shí),也需要較薄的薄膜窗口,便于X射線更好地穿透。

產(chǎn)品型號(hào):SN-LDE
更新時(shí)間:2024-06-17
廠商性質(zhì):代理商
訪問量:4180
詳細(xì)介紹在線留言

SHNTI的X-射線薄膜窗能夠?qū)崿F(xiàn)軟X-射線(如真空紫外線)的zui大透射率。主要用于同步輻射X射線透射顯微成像時(shí)承載樣品。 X-射線越軟(能量越低),穿透能力越差,所需氮化硅薄膜窗越薄。特別在“離軸”狀態(tài)工作(即薄膜與光束成一定角度)時(shí),也需要較薄的薄膜窗口,便于X射線更好地穿透。
SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口是利用現(xiàn)代MEMS技術(shù)制備而成,由于此種氮化硅窗口選用低應(yīng)力氮化硅(0-250MP)薄膜,因此比計(jì)量式和ST氮化硅薄膜更堅(jiān)固耐用。SHNTI提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應(yīng)用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學(xué)研究領(lǐng)域,例如,X-射線(上海光源透射成像/能譜線站)、TEM、SEM、IR、UV等。
現(xiàn)在SHNTI可以提供X-射線顯微成像/能譜(同步輻射)用氮化硅薄膜窗系列產(chǎn)品,規(guī)格如下:
外框尺寸 (4種標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格):

5 mm x 5 mm (窗口尺寸:1.0 mm 或和 1.5 mm 方形)

7.5 mm x 7.5 mm (窗口尺寸:2.0 mm 或 2.5 mm)

10 mm x 10 mm (窗口尺寸:3.0 mm 或 5 mm 方形)

邊框厚度: 200μm、381μm、525μm。 
Si3N4薄膜厚度:50、100、150和200nm
SHNTI也可以為用戶定制產(chǎn)品(30-500nm),但要100片起訂。

本產(chǎn)品為一次性產(chǎn)品,SHNTI不建議用戶重復(fù)使用,本產(chǎn)品不能進(jìn)行超聲清洗,適合化學(xué)清洗、輝光放電和等離子體清洗。

氮化硅薄膜窗口系列
SN-LDE-505-15 氮化硅薄膜窗口,框架:5×5mm,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:50nm 
SN-LDE-510-15 氮化硅薄膜窗口,框架:5×5mm,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:100nm
SN-LDE-515-15 氮化硅薄膜窗口,框架:5×5mm,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:150nm
SN-LDE-520-15 氮化硅薄膜窗口,框架:5×5mm,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:200nm
SN-LDE-705-25 氮化硅薄膜窗口,框架:7.5×7.5mm,窗口:2.5×2.5mm,膜厚:50nm 
SN-LDE-710-25 氮化硅薄膜窗口,框架:7.5×7.5mm,窗口:2.5×2.5mm,膜厚:100nm
SN-LDE-715-25 氮化硅薄膜窗口,框架:7.5×7.5mm,窗口:2.5×2.5mm,膜厚:150nm
SN-LDE-720-25 氮化硅薄膜窗口,框架:7.5×7.5mm,窗口:2.5×2.5mm,膜厚:200nm
SN-LDE-105-30 氮化硅薄膜窗口,框架:10×10mm,窗口:3×3mm,膜厚:50nm
SN-LDE-110-30 氮化硅薄膜窗口,框架:10×10mm,窗口:3×3mm,膜厚:100nm
SN-LDE-115-30 氮化硅薄膜窗口,框架:10×10mm,窗口:3×3mm,膜厚:150nm
SN-LDE-120-30 氮化硅薄膜窗口,框架:10×10mm,窗口:3×3mm,膜厚:200nm
氮化硅薄膜窗口陣列系列
SN-AR-522-15 氮化硅薄膜窗口,框架:5×5mm,窗口:1.5×1.5mm,2×2陣列,膜厚:50nm
SN-AR-733-15 氮化硅薄膜窗口,框架:7.5×7.5mm,窗口:1.5×1.5mm,3×3陣列;膜厚:50nm  
SN-AR-1044-15 氮化硅薄膜窗口,框架:5×5mm,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:100nm 
氧化硅薄膜窗口系列
SO-505-15 氧化硅薄膜窗口,框架:5×5mm,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:50nm 
SO-510-15 氧化硅薄膜窗口,框架:5×5mm,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:100nm
SO-520-15 氧化硅薄膜窗口,框架:5×5mm,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:150nm
SO-705-25 氧化硅薄膜窗口,框架:7.5×7.5mm,窗口:1.5×1.5mm,3×3陣列,膜厚:50nm 
SO-710-25 氧化硅薄膜窗口,框架:7.5×7.5mm,窗口:1.5×1.5mm,3×3陣列,膜厚:100nm
SO-720-25 氧化硅薄膜窗口,框架:7.5×7.5mm,窗口:1.5×1.5mm,3×3陣列,膜厚:200nm
氮化硅薄膜窗口系列
SN-1010-2-AU10 氮化硅基底框架:10×10mm,窗口:2×2mm,膜厚:100nm,金膜厚度:10nm 
SN-1020-2-AU10 氮化硅基底框架:10×10mm,窗口:2×2mm,膜厚:200nm,金膜厚度:10nm
SN-710-2-AU10 氮化硅基底框架:7.5×7.5mm,窗口:2×2mm,膜厚:100nm,金膜厚度:10nm 
SN-720-2-AU10 氮化硅基底框架:7.5×7.5mm,窗口:2×2mm,膜厚:200nm,金膜厚度:10nm
特殊定制產(chǎn)品
SN-5H5-15 氮化硅基底框架:5×5mm,硅片厚度:200um,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:500nm 
SN-5H10-15 氮化硅基底框架:5×5mm,硅片厚度:200um,窗口:1.5×1.5mm,膜厚:1000nm 
SN-LDE-4-10 氮化硅片100nm-4英寸整張,10×10mm切片 

襯底厚度:200um 溫度范圍:1000℃ 真空適應(yīng):1個(gè)大氣壓
厚度可以選擇:200um,381um,525um,需要提前說明。

 

:admin@shnti.com

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